第三百九十四章 與世界為敵
《半導體行業的革新產品出現》
《阿斯麥公司率先研發出EUV光刻機》
《晶片工藝製程或將提升十倍》
《晶片工藝已將達到物理極限》
在依然還有著‘魔力’‘外星生物’這些熱點的時候，阿斯麥的EUV光刻機在背後一群資本的運作下，立刻就登上了全球熱點。
本來正常來說，一件商品的更新迭代都是有跡可循的，或者說會有著技術儲備。
比如明明EUV光刻機是重新的新開賽道，和以前的DUV光刻機關系不大，但在平行世界這也硬是等到了晶片達到了DUV光刻機極限的7nm瓶頸後才拿出來的。
但在這裡，因為安布雷拉DUV光刻機帶來的壓力，還有人工智慧以及量子計算+超算的模式前景擺在這裡。
為了重新爭奪這尖端利潤，為了更美好的前景。
在如今最頂級的晶片工藝製程還是14nm的時候，阿斯麥公司就端出了他們的EUV光刻機。
而且因為安布雷拉對鏡片領域的影響加持，還有其他各方面技術帶來的競爭感。
阿斯麥這次提前拿出的EUV光刻機比原本計劃的各項技術參數，還要更加優秀！
某積電、四星、英特爾等晶圓廠都已經到貨，並開始組裝除錯！
顯然阿斯麥的EUV光刻機並不是說剛剛才造出來的，是已經開始供貨讓他們加班加點的完成組裝後才開始官宣的。
為的就是一步到位，為的就是減少給競爭對手的反應時間！
EUV光刻機比DUV要大得多，重量180噸，甚至連運輸都需要專門的車輛，組裝起來也相當麻煩。
如果不是提前就已經為這些合作晶圓廠的工作人員進行了培訓，從頭開始的話安裝除錯個大半年都是相當正常的。
而現在，在安布雷拉那邊的壓力下，不管是阿斯麥還是各大晶圓廠都拿出了自己的最大潛力，加班加點的全都聯動了起來。
在各路資本推波助瀾的炒作下，配合著這次對於安布雷拉新增的多項制裁，也一下讓很多人多緩過了神來。
這一次，恐怕針對的就是安布雷拉！
“好大的手筆！”
“之前覺得世界公司已經很冤了，但對比一下針對安布雷拉的才可怕！”
“世界公司只是順帶被波及的，主要目標都放在安布雷拉這的，實在是他們身上的利益太大了。”
“阿斯麥好陰險啊，一直捂著不放，差不多一錘定音的時候就出來了。”
“……”
伴隨著網路上的討論發酵，等到熱度達到峰值的時候，阿斯麥這邊也進行了一個直播節目。
同時有著某積電、四星、英特爾等諸多半導體工程師，還有一些晶片設計廠、封裝廠等等的專業人士。
站在一處廠房外，所有人臉上都是帶著笑容。
直播鏡頭前，由阿斯麥的工程師率先開口進行了介紹
“恐怕很多人都沒想到，我們會直接放棄原本成熟的DUV技術，直接從頭開始的研發EUV光刻機。”
一邊說，他們還圍繞著廠房一邊走。
“或許從最開始，就沒人看好EUV光刻機，因為雖然理論上這能達到DUV光刻機的十倍解析度，但實在是太難了，難度太大，需要突破的瓶頸太多，對技術的需求極高，克服的難點數不勝數。”
一邊說著他還一邊開啟了手環，形成了一個三維的全息投影簡單的介紹道
“大家都知道光刻機的本質就是曝光，DUV光刻機，我們還能找到對應的鏡片讓深紫外線透過，特別是後來安布雷拉的技術產出的新鏡片，更是加強了這一點，安布雷拉自己的光刻機就是利用了這一點彎道超車，在不使用浸潤法的情況下超過了我們的效率！”
阿斯麥沒有去貶低安布雷拉，甚至還可以說在旁邊吹噓。
因為只有將安布雷拉的強大體現出來，才能說明他們更強！
這是一個強大的對手，但還是輸了，輸在了我們面前！
“但，這一點對EUV光刻機卻是不行，我們使用的13.5nm波長極紫外線電離能力極強，沒有鏡頭可以適合這種精度下讓這種高能光束透過，所以唯一可以選擇的辦法，只有反射！”
一邊說著，全息圖像上也進行了改變，講解了一下大概的原理。
就是不斷利用一些鏡片的反射來完成對極紫外線的匯聚。
總共要完成十幾次的反射才能達到最後的曝光要求！
“這對於反射鏡片的精度需求可以說是極高的，要感謝卡爾蔡司公司在這方面的付出。”
說完就對旁邊卡爾蔡司的工程師做出了一個請的手勢。
卡爾蔡司公司的工程師也順勢站了出來禮貌的說道
“我們同樣利用到了安布雷拉的技術塗層，不過當然，就精度方面，我們還是有點自信的……”
【目前用下來，聽書聲音最全最好用的App，集成4大語音合成引擎，超100種音色，更是支持離線朗讀的換源神器，huanyuanapp.org 換源App】
隨後，阿斯麥的代表又介紹了他們的EUV光源。
“之前說了，極紫外線需要透過十幾次反射才能達到我們的效果，而因為極紫外線的電離消耗，每次反射都會損失大概30%左右的能量，最終我們能夠有效利用的光只有大概2%，因此，我們需要光源有著足夠且穩定的輸出功率，為了克服這個問題Cymer公司可是花費了整整十年的時間來攻克，不過Cymer公司在三年前已經被我們公司完成了收購……”
一邊說著，他一邊繼續外放了全息畫面，裡面連原理都出來了，就是用高能鐳射不斷轟擊液態金屬滴，難度和精確度看著他提供的資料就讓人頭皮發麻。
只是製造出來不難，可要保持穩定和持久，還有足夠輸出功率的光源，那就要確保每次的撞擊都極為精準，且頻率要足夠高。
不斷轟擊滴落的金屬液滴，各方面稍微有一點失誤都是完全不同的。
再後面隨著不斷的介紹，觀眾也明白了這臺機器是怎麼樣組合起來的怪物。
大漂亮的光源技術，霓虹的光源轉換裝置，高盧的閥件，普魯士的鏡頭，瑞典的軸承，都需要極為精密，缺一不可，連安裝都要極為精細要避開周邊環境的輕微震動。
甚至連運輸光刻機的車輛，都是某積電的專利技術！
直播到這裡，很多觀眾眼裡也就看明白了問題所在。
EUV光刻機絕不是一個兩個技術的問題，而是匯聚了全球所有最頂級的科技。
而這些頂級巨頭匯聚在一起，就是為了壓下安布雷拉公司。
還是直接靠著技術代差，一口氣完成碾壓的方式！
這本身，也是一種秀肌肉的表現！
如今，主流的晶片工藝才到14nm。
然而EUV光刻機的理論極限卻是能達到矽基晶片的極限，可以達到1nm！
如果能解決隧穿問題，甚至還能更低！
是，這不符合商業規律和利潤。
沒有慢慢的更新迭代來進行收割。
但沒辦法，安布雷拉這邊殺出來太強了，他們的DUV光刻機效能太好，而且晶片簡直就是處於黑盒狀態完全摸不清。
這種情況只能一口氣拿出最好的將他們直接打倒。
雖然晶片方面一下透支到了極限，但卻可以在量子計算+超算以及人工智慧方面補回來！
安布雷拉人工智慧再強，也是需要依託於硬體的！
現在，阿斯麥就是在這裡打明牌。
我們，擁有著全球各種最強的技術。
“這，就是我們的EUV光刻機，雖然現在才在各大晶圓廠完成安裝除錯，之後如何將工藝提升到極限還要看各大晶圓廠的手段，但我們的工具好歹已經製作完成，已經有了不斷試錯吸取經驗的條件，可以不斷向前，不斷前進……
“安布雷拉公司很強，非常強，強到讓人歎為觀止，我現在所展示的全息技術，我們鏡片上強化的塗層，還有人工智慧的結構等等，都奠定了安布雷拉的強大基礎。
“但，我們更強……”
隨後鏡頭拉遠，也將阿斯麥和諸多參與了EUV零部件設計的公司，將EDA三大廠，將晶片設計廠，將晶原廠所有代表，全都同框。
展現了他們巨大的底氣與實力。
之所以做出這個直播，就是為了向所有人宣告。
他們，掌握著全球最頂級的技術。
這種技術的沉澱，不是你短時間可以追趕上的！
你或許能短期突破某個瓶頸，可你無法突破全部瓶頸！
在你追趕的時候，我們也會繼續前行，永遠走在前面，建好諸多壁壘堵住你的去路，讓我們始終保持著差距！
讓我們始終佔據著最大的利潤！
你們，在與世界為敵……
————